流化床化學(xué)氣相沉積（FB CVD）

技術(shù)優(yōu)勢明顯：

傳熱傳質(zhì)效率高：流化床反應器的傳熱和傳質(zhì)系數比傳統的固定床反應器和移動(dòng)床反應器高 1 個(gè)數量級以上，反應更充分。

溫度控制均勻：反應區溫度均勻，對于強熱效反應的熱擴散和熱補充有明顯優(yōu)勢，在控溫反應的溫度精度一致性上也有不可替代的優(yōu)勢。

單位產(chǎn)能大：能效和接觸充分，單位床層的生產(chǎn)能力遠遠大于傳統的固定床反應器和移動(dòng)床反應器。

易于物料處理：反應區質(zhì)點(diǎn)均處于流動(dòng)態(tài)，易于物料的加注和卸出，可提升能耗利用效率和生產(chǎn)效率。

自動(dòng)化程度高：設備采用自動(dòng)化控制，更加接近于商業(yè)化設備，性能穩定性明顯提高。

能源領(lǐng)域應用潛力大：在能源存儲與轉換方面，FB CVD 可用于制備三維石墨烯網(wǎng)絡(luò )等材料。如通過(guò)該工藝制備的三維石墨烯網(wǎng)絡(luò )作為鋰硫電池的電極，表現出良好的倍率性能和循環(huán)穩定性，為大規模應用三維石墨烯材料開(kāi)辟了新途徑，隨著(zhù)新能源產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，其需求有望增加。

納米材料制備優(yōu)勢突出：FB CVD 能夠實(shí)現碳基精細粉末的均勻包覆，可用于制備各種復合材料，在電催化和鈉離子電池陽(yáng)極等領(lǐng)域有潛在應用。例如，通過(guò)該方法可合成錫硫族化合物與硬碳粉末的復合材料，這類(lèi)材料在電子學(xué)領(lǐng)域，如光電子學(xué)、熱電學(xué)等方面具有較高的應用潛力。

半導體制造需求增長(cháng)：在半導體制造的先進(jìn)封裝環(huán)節，FB CVD（可流動(dòng) CVD）因能填充納米級間隙，成為關(guān)鍵工藝。隨著(zhù)半導體行業(yè)的發(fā)展，特別是先進(jìn)制程技術(shù)向 3nm 及以下節點(diǎn)突破，以及存儲芯片市場(chǎng)需求的復蘇，對 FB CVD 設備的需求也將持續增長(cháng)。

環(huán)保領(lǐng)域應用前景廣闊：相關(guān)研究表明，利用類(lèi)似 FB CVD 的單階段浮動(dòng)催化劑 CVD 法制備的垂直排列碳納米管具有超疏水性能和對重金屬離子的吸附能力，在油水分離和水凈化等環(huán)保領(lǐng)域具有應用潛力，有助于解決環(huán)境污染問(wèn)題，符合未來(lái)環(huán)保產(chǎn)業(yè)的發(fā)展需求。

設備工藝已經(jīng)成熟：儒佳科技在新材料領(lǐng)域進(jìn)行探索，十年磨一劍的不斷創(chuàng )新，逐漸形成以物理研磨和化學(xué)沉積方法的工藝設備的專(zhuān)業(yè)性新材料設備廠(chǎng)家。